掩模基板拋光機(jī)

掩?;鍜伖鈾C(jī)

主要應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路的高平坦度的電子設(shè)備用基板,該設(shè)備提供一種新的掩?;鍜伖夂椭圃旆椒ā?br/>

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主要應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路的高平坦度的電子設(shè)備用基板,該設(shè)備提供一種新的掩?;鍜伖夂椭圃旆椒ā?br/>

優(yōu)勢(shì)


1.雙區(qū)可控加壓拋光頭;
2.可實(shí)現(xiàn)拋光模和工件的原位檢測(cè);
3.具備缺陷修復(fù)功能單元;
4.獨(dú)立供液管路;
5.國(guó)產(chǎn)化率100%;

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